Китайская компания SMEE показала новые установки для выпуска полупроводников SSC800 и SSB800, в которых используется более 90 % компонентов местного производства. По данным TrendForce со ссылкой на отраслевые источники, оборудование уже освоило массовый выпуск и суммарно обработало свыше 10 млн кремниевых пластин.
Обе установки поддерживают разные технологии литографии. SSC800 использует KrF (технология глубокой ультрафиолетовой фотолитографии, DUV) и рассчитана на производство микросхем по техпроцессам от 110 нм, включая компоненты для ИИ-систем, высокопроизводительных вычислений и чипы памяти. SSB800 работает с технологией I-line (ультрафиолетовый диапазон спектра) и предназначена для норм от 280 нм, применяемых при выпуске силовых и аналоговых полупроводников, а также MEMS.
Установки оснащены разработанной в Китае проекционной оптикой и двухпозиционной системой обработки пластин. При этом точность совмещения слоёв и производительность оборудования приближаются к показателям зарубежных аналогов соответствующего класса.
Оборудование уже эксплуатируются на крупных китайских предприятиях, выпускающих логические микросхемы и память, а его доступность превышает 92 %. SMEE работает с 2002 года и остаётся единственным китайским производителем, способным стабильно поставлять серийные установки сухой проекционной литографии. Компания также оказалась в американском списке экспортных ограничений с декабря 2022 года.
Тем временем Китай развивает иммерсионную DUV-литографию и одна из государственных компаний уже приступила к массовому производству соответствующих установок, хотя они пока значительно уступают оборудованию ASML. Новые SSC800 и SSB800 показали на выставке CIIE в Шанхае с 5 по 10 ноября.
